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產品詳情
簡單介紹：
主要特長
除近接曝光外，還可對應接觸曝光(軟接觸和硬接觸)
可對應幅度為500mm以上的大型膠片。
采用獨自的光學系統(tǒng),可選擇單面曝光或雙面曝光。還能進行一燈式雙面曝光。
裝載有自動對位功能。通過特殊照明實現透明材料的對位。
除Roll to Roll外可設計枚葉式搬送等機構,根據客戶的需要構成裝置。
可選擇基板臺溫度控制及掩膜冷卻規(guī)格等。(選購項)
詳情介紹：
光刻機介紹
曝光裝置 MA-1200 基板追大尺寸 200 x 200mm ?4″ ～ ?6″
光源 超高壓水銀燈 ：500W or 1kW
曝光裝置 MA-1400 基板追大尺寸400 x 400mm
光源 超高壓水銀燈 ：2kW or 3.5kW
LED,LN曝光裝置MA-4000 圓晶尺寸?2～4″或者?4～6″
光源 超高壓汞燈：500W 或 1kW
?200mm/?150 mm 對應曝光裝置MA-4301M 材料SI 玻璃， 對齊精度自動對齊：+/- 1 μm（
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?300mm對應曝光裝置MA-5301ML 光源超高壓汞燈：3.5kW ?200mm規(guī)格也可對應
マスクレス露光裝置MX-1201 曝光掃描速度43.94mm/s 有效曝光區(qū)域200 x 200 追大曝光量（※3）245/70/245+70
マスクレス露光裝置MX-1201E 曝光掃描速度22.5mm/s 有效曝光區(qū)域200 x 200 追大曝光量（※3）460/70135
マスクレス露光裝置MX-1205 曝光掃描速度9/4.5mm/s 有效曝光區(qū)域100 x 100 追大曝光量（※3）100/50
主要用途
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觸摸屏、電子紙、光學膠片(3D等)、有機EL、鋰離子電池、太陽能電池、印刷線路板
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適合觸摸屏、電子紙、光學膠片(3D等)、有機EL用掩膜等膠片形狀基材的曝光機。對應Roll to Roll,可實現軟性、薄型、輕量基材的大量生產。
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