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日本mikasa勻膠機(jī)MS-B150中國地區(qū)代理現(xiàn)貨！
日本mikasa勻膠機(jī)MS-B150中國代理現(xiàn)貨！
日本Mikasa為半導(dǎo)體制造工序提供支持的Mikasa備齊光刻膠涂布、曝光、顯影、蝕刻等半導(dǎo)體制造前段工序所需要的裝置后，提供一站式服務(wù)。另外，為旋轉(zhuǎn)涂膜儀的所有機(jī)型準(zhǔn)備了替代用機(jī)，可在發(fā)生故障時(shí)盡早應(yīng)對，且在銷售后提供快捷周到的售后服務(wù)。針對研究過程中所發(fā)生的一系列問題，也可在現(xiàn)場提出解決建議。與客戶共同探討在哪個(gè)工序出現(xiàn)了問題、應(yīng)如何改進(jìn)等等，從而得出解決建議。Mikasa 作為一個(gè)可在半導(dǎo)體方面進(jìn)行共同商談的咨詢顧問不僅銷售設(shè)備，而是為客戶半導(dǎo)體制造的整體工藝流程。將光刻膠（感光材料）涂抹到晶圓表面，形成厚度均一的薄膜。
日本MIKASA旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)MS-A150/MS-B150產(chǎn)品規(guī)格：
| *大電路板尺寸 | φ6英寸晶圓或100×100mm基板 |
| 速度（轉(zhuǎn)/分） | 20~7，000 |
| 旋轉(zhuǎn)精度 | ±1轉(zhuǎn)/分（負(fù)載時(shí)） |
| 發(fā)動機(jī) | 交流伺服電機(jī) |
| 蓋 | 丙烯酸 |
| 旋轉(zhuǎn)室直徑 | φ290毫米 |
| 步進(jìn)模式數(shù) | 100 步× 10 種模式 |
| 時(shí)間設(shè)置 | 999.9秒 |
| **聯(lián)鎖 |
真空標(biāo)準(zhǔn) 蓋可選 |
| 滴水裝置 | 選擇 |
| 使用的真空壓力 | -0.08~-0.1兆帕 |
| 權(quán)力 | 交流100~240V 5A |
| 外部尺寸（毫米） | 352W×303H×432D |
| 重量 | 16公斤 |
日本Mikasa為半導(dǎo)體制造工序提供支持的Mikasa備齊光刻膠涂布、曝光、顯影、蝕刻等半導(dǎo)體制造前段工序所需要的裝置后，晶圓涂抹提供一站式服務(wù)。
日本Mikasa 半導(dǎo)體用設(shè)備 旋涂機(jī)。勻膠機(jī)
MS-B100
MS-B150
MS-B200
MS-B300
MS-B200
日本Mikasa半導(dǎo)體用設(shè)備 密閉型MS-B300
日本Mikasa半導(dǎo)體用設(shè)備 密閉型MA-20
MA-10B
MA-60F
M-2LF
M-1S
日本Mikasa半導(dǎo)體用設(shè)備
AD-1200
AD-3000
ED-1200
為半導(dǎo)體制造工序提供支持的Mikasa
備齊光刻膠涂布、曝光、顯影、蝕刻等半導(dǎo)體制造前段工序所需要的裝置后，提供一站式服務(wù)。另外，為旋轉(zhuǎn)涂膜儀的所有機(jī)型準(zhǔn)備了替代用機(jī)，可在發(fā)生故障時(shí)盡早應(yīng)對，且在銷售后提供快捷周到的售后服務(wù)。針對研究過程中所發(fā)生的一系列問題，也可在現(xiàn)場提出解決建議。與客戶共同探討在哪個(gè)工序出現(xiàn)了問題、應(yīng)如何改進(jìn)等等，從而得出解決建議。Mikasa 作為一個(gè)可在半導(dǎo)體方面進(jìn)行共同商談的咨詢顧問，不僅銷售設(shè)備，而是為客戶半導(dǎo)體制造的整體工藝流程
晶圓→洗滌（**晶圓表面的臟污及各種金屬離子）→成膜（在高溫?cái)U(kuò)散爐中，形成表面氧化膜）→光刻膠涂布（將光刻膠（感光材料）涂抹到晶圓表面，形成厚度均一的薄膜）→曝光（將光掩膜與晶圓重合，復(fù)制電路圖案）→顯影（去除曝光部位（正膠）的光刻膠）→蝕刻（通過腐蝕氧化膜來蝕刻電路）
日本Mikasa為半導(dǎo)體制造工序提供支持的Mikasa備齊光刻膠涂布、勻膠機(jī)， 旋涂機(jī)，曝光、顯影、蝕刻。旋涂儀、旋涂機(jī)、甩膠機(jī)、勻膠臺、旋轉(zhuǎn)涂膠機(jī)、旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)、旋轉(zhuǎn)涂層機(jī)、旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)、旋轉(zhuǎn)薄膜機(jī)、旋轉(zhuǎn)涂覆儀、旋轉(zhuǎn)涂膜儀、勻膜機(jī)
