社名：株式會社天谷製作所　（AMAYA CO.,LTD.）

所在地：越谷工場：〒343-0822 埼玉県越谷市西方3149-1
福生工場：〒197-0003 東京都福生市熊川1598
臺灣事務所：臺灣 臺北市松山區復興北路369號 4F

主事業：半導體、太陽能電池制造設備等的制造和銷售，以及此類設備的售后服務

主要產品：常壓CVD設備、光掩模清洗設備等

近年來，物聯網的發展非常顯著，我們已經能夠享受到無處不在的便捷服務。 該技術的核心是感知、獲取、處理和分析大量數據的技術，為此，有必要加速引入傳感器、人工智能和下一代高速通信等新技術**和技術，并且需要各種各樣的半導體器件來支持這一點。

自1970年開始開發和銷售常壓CVD設備以來，我們為半導體制造和研發工藝的質量改進和生產率提高做出了貢獻。 2010年，我們將這項技術擴展到太陽能電池，并作為常壓CVD技術領域的專業人士繼續接受挑戰。

2019年，作為渡邊商工集團業務重組的一部分，我們接管了Tomco株式會社的設備業務，并接管了光掩模清潔設備的制造和銷售業務。
未來，作為常壓CVD設備行業的利基***，我們將繼續提供有助于提高客戶制造和研發過程的質量和生產率的設備和服務，并將努力開發，制造和銷售光掩模清潔設備等，從而通過半導體業務的發展為建設繁榮舒適的社會做出貢獻。

常壓CVD設備

<產品功能>

• 適用于半導體制造和太陽能電池制造等各種應用
• 從小批量生產到大批量生產
• 形成各種薄膜類型，如SiO 2，BPSG，BSG，PSG等。
• 通過使用碳化硅托盤防止重金屬污染
• 可從低溫 （200°C） 到中溫 （500°C） 進行廣泛的薄膜沉積

半導體制造設備

A200V單晶圓常壓CVD裝置    

特征

• 在這種方法中，晶圓沉積表面被上卡盤夾住，晶圓朝向底部，工藝氣體從底部的分散頭吹出形成薄膜。 卡盤提高了晶圓內溫度均勻性，并提供出色的厚度均勻性，同時防止氣體包圍晶圓背面，防止背面沉積并防止顆粒粘附在晶圓上并進入腔室。
• 設備尺寸已盡可能緊湊，以*大程度地減少占用空間。
• 使用封閉腔室可消除氣體泄漏并提高操作員的**性。

  AMAX800V8英寸連續常壓CVD設備量產

• 8英寸 每小時 100 張的高吞吐量
• 使用SiC托盤的重金屬污染對策和長期穩定的工藝
• 提高可維護性

AMAX120012“ 連續常壓CVD機用于批量生產        

• 12 英寸 每小時 51 張的吞吐量
• 采用SiC托盤防止重金屬污染的對策

 A6300S用于小直徑晶圓連續生產的常壓CVD設備

• 6 英寸 吞吐量為每小時 120 張
• 采用SiC托盤防止重金屬污染的對策

定制設備

D501間歇式常壓CVD機

太陽能電池設備

AMAX1000S125mm/156mm太陽能電池量產連續常壓CVD設備

• 156 毫米方形 1500 張/小時吞吐量
• 采用SiC托盤防止重金屬污染的對策，以及通過改善托盤支架防止背面環繞的措施

特征

• 可以使用滿足太陽能電池生產需求的超批量生產設備運輸156mm x 156mm方形基板和125mm x 125mm方形基板。
• 我們開發了可實現批量生產的專用分散頭，以及實現超高速輸送的雙臂輸送機構。 此外，還增加了燈管加熱機構，以實現超高速和晶圓溫度均勻性。
• 我們開發了一種特殊的晶圓支架，用于高效加熱太陽能電池的薄晶圓。
• 卸料器部分使用多級Bernui卡盤來分離晶圓和托盤，并且還具有冷卻功能。

玻璃基板沉積設備

用于剛性和柔性設備（如FPD）的常壓CVD設備

• 低溫（150~300°C）處理
• 高質量 SiO2 成膜低應力
  、等離子體損傷、小顆粒
• 占地面積小，降低了安裝和維護成本
  ，無需真空或等離子處理
• 低價

光掩模清洗設備.

• 清潔溶液高速擴散到清潔表面
• 快速消除異物和反應產物
• 無水痕干燥

特征