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Filmetrics薄膜厚度儀F20美國KLA Instruments

日期：2026-04-07 15:01

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摘要：Filmetrics薄膜厚度儀F10-HC、Filmetrics薄膜厚度儀F20、Filmetrics薄膜厚度儀F32、Filmetrics薄膜厚度儀F40、Filmetrics薄膜厚度儀F50、Filmetrics薄膜厚度儀F60-t，美國KLA Instruments薄膜厚度儀F10-HC、美國KLA Instruments薄膜厚度F20、美國KLA Instruments薄膜厚度F32、美國KLA Instruments薄膜厚度F40、美國KLA Instruments薄膜厚度F50、美國KLA Instruments薄膜厚度F60-t

Filmetrics薄膜厚度儀F20美國KLA Instruments
KLA的 Filmetrics 系列利用光譜反射技術實現薄膜厚度的**測量，其測量范圍從 nm-mm，可實現如光刻膠、氧化物、硅或者其他半導體膜、有機薄膜、導電透明薄膜等膜厚**測量，被廣泛應用于半導體、微電子、生物醫學等領域。Filmetrics 具有 F10-HC、F20、F32、F40、F50、F60-t 等多款產品，可測量從幾 mm 到 450mm 大小的樣品，薄膜厚度測量范圍 1nm 到mm 級。

Filmetrics薄膜厚度儀F20美國KLA Instruments測量原理-光譜反射

光譜橢圓偏振儀 (SE) 和光譜反射儀 (SR) 都是利用分析反射光確定電介質，半導體，和金屬薄膜的厚度和折射率。兩者的主要區別在于橢偏儀測量小角度從薄膜反射的光, 而光譜反射儀測量從薄膜垂直反射的光。光譜反射儀測量的是垂直光，它忽略偏振效應（絕大多數薄膜都是旋轉對稱）。因為不涉及多種移動設備，光譜反射儀成為簡單低成本的儀器。光譜反射儀可以很容易整合加入更強大透光率分析。光譜反射儀通常是薄膜厚度超過 10um 的優選，而橢偏儀側重薄于 10nm 的膜厚。在 10nm 到 10um 厚度之間，兩種技術都可用。

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Filmetrics薄膜厚度儀F20美國KLA Instruments主要應用

測量厚度、折射率、反射率和穿透率：