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FE-3000
OTSUKA大冢-反射性的分鐘光膜厚計
多種多樣的樣品的膜厚·光，除了半導體領域的圖案樣品、透鏡和鉆孔之類的形狀樣品之外，還有表面粗糙度和膜厚不均的樣品。能夠進行定數分析。OTSUKA大冢-反射性的分鐘光膜厚計FE-3000OTSUKA大冢-反射性的分鐘光膜厚計FE-3000OTSUKA大冢-反射性的分鐘光膜厚計FE-3000OTSUKA大冢-反射性的分鐘光膜厚計FE-3000OTSUKA大冢-反射性的分鐘光膜厚計FE-3000
特長：
通過從紫外到近紅外區域的反射光，可以進行多層膜的膜厚測量·光學常數分析的光干涉式膜厚計.。
通過分光法的采用，能夠進行非接觸·非破壞且高精度再現性的膜厚測量。
適用于較寬的波長范圍(190nm~1600nm)。
對應從薄膜到厚膜的廣泛測定范圍。(1nm到1mm)。
通過微小點(*小φ3μm)的測定，對應有圖案和不均勻的樣品。
測量項目。
優良的反射率測量。
膜厚的解析。
光學常數分析(n:折射率，k:衰退計數)。
用途。
功能性薄膜、塑料。
透明導電膜(ITO、銀納米線)、相差膜、偏振膜、AR膜、PET、PEN、TAC、PP、PC、PE、PVA、粘合劑、保護膜、外殼。防指紋劑。
半導體，化合物半導體。
Si、氧化膜、氮化膜、Resist、SiC、GaAs、GaN、InP、InGaAs、引線幀、SOI、Sapphire等。
表面的處理。
DLC涂層、防銹劑、防陰劑等。
光學材料。
鏡頭、過濾器、AR外套等。
FPD。
LCD(CF、ITO、LC、PI、PS)、OLED(有機膜、填充劑)等。
其他。
硬盤、磁帶、建材等
大塚電子では、光干渉法と自社製高精度分光光度計により、非接觸?非破壊かつ高速高精度な膜厚測定を可能にしています。光干渉法は、図2のような分光光度計を利用した光學系によって得られた反射率を用いて光學的膜厚を求める方法です。図1のように金屬基板上にコーティングされた膜を例にとると、対象サンプル上方から入射した光は膜の表面で反射します（R1）。さらに膜を透過した光が基板（金屬）や膜界面で反射します（R2）。このときの光路差による位相のずれによって起こる光干渉現象を測定し、得られた反射スペクトルと屈折率から膜厚を演算する方法を光干渉法と呼びます。解析手法は、ピークバレイ法、周波數解析法、非線形*小二乗法、*適化法の4種類があります。
