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OTSUKA大冢-晶片厚度映射系統SF-3AAF

SF-3AAF OTSUKA大冢-晶片厚度映射系統搭載模式匹配功能，是X-Y定位精度2um以下的系統。OTSUKA大冢-晶片厚度映射系統SF-3AAFOTSUKA大冢-晶片厚度映射系統SF-3AAFOTSUKA大冢-晶片厚度映射系統SF-3AAF
OTSUKA大冢-晶片厚度映射系統SF-3AA

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OTSUKA大冢-負載端口對應膜厚測量系統GS-300

GS-300 OTSUKA大冢-負載端口對應膜厚測量系統搭載模式匹配功能，X-Y定位精度在2um以下的系統。OTSUKA大冢-負載端口對應膜厚測量系統GS-300OTSUKA大冢-負載端口對應膜厚測量系統GS-300OTSUKA大冢-負載端口對應膜厚測量系統GS-300
OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/200

　SF-3/200 OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計用非接觸的溫哈和樹脂的超高速實時、高精度的測量。OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/200OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/200OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/200
OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/300

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OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/1300

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OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/BB

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OTSUKA大冢-非接觸光學厚度計AT-1500

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OTSUKA大冢-卓上型線掃描膜厚計

OTSUKA大冢-卓上型線掃描膜厚計OTSUKA大冢-卓上型線掃描膜厚計OTSUKA大冢-卓上型線掃描膜厚計
OTSUKA大冢-非接觸光學厚度計AT-5000

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OTSUKA大冢-線掃描膜厚計

OTSUKA大冢-線掃描膜厚計在線薄膜生產現場能夠對薄膜的膜厚進行全幅、全長測量的裝置。通過在獨自的分光干涉法中組合新開發的高精度膜厚演算處理技術，以每*短0.01秒的測定間隔，可以進行500mm寬(1臺使用時)的薄膜的膜厚測定。OTSUKA大冢-線掃描膜厚計OTSUKA大冢-線掃描膜厚計
OTSUKA大冢-分光器FE-5000S

　FE-5000S OTSUKA大冢-分光器除了能夠高精度的薄膜解析的分光中，通過實現測量角度的自動可變機構，也對應于所有種類的薄膜。除以往的旋轉檢光子法之外，通過設置相位差版的自動脫穿機構，提高了測定精度。OTSUKA大冢-分光器FE-5000SOTSUKA大冢-分光器FE-5000SOTSUKA大冢-分光器FE-5000S
OTSUKA大冢-分光器FE-5000

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OTSUKA大冢-嵌入式膜厚監視器

OTSUKA大冢-嵌入式膜厚監視器 OTSUKA大冢-嵌入式膜厚監視器高精度地實現具有波長依存性的多層膜測量！
OTSUKA大冢-膜厚測定用多頻道分光器MCPD series

MCPD series OTSUKA大冢-膜厚測定用多頻道分光器MCPD seriesOTSUKA大冢-膜厚測定用多頻道分光器MCPD seriesOTSUKA大冢-膜厚測定用多頻道分光器MCPD series
OTSUKA大冢-膜厚監視器FE-300

FE-300 OTSUKA大冢-膜厚監視器是一種通過簡單操作實現高精度光干涉法的膜厚測量的小型低價格的膜厚計。采用將必要的機器收納在機身部位的一體化體型外殼，實現了穩定的數據的獲取通過獲取低價位的優良反射率，也可以進行光學常數的分析。OTSUKA大冢-膜厚監視器FE-300OTSUKA大冢-膜厚監視器FE-300

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