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代理日本品牌：OTSUKA大塚電子（薄膜測厚儀、相位差膜設(shè)備等）、USHIO牛尾點(diǎn)光源、CCS檢查光源、Aitec艾泰克、REVOX萊寶克斯、ONOSOKKI小野測器、YAMATO雅馬拓、KOSAKA小坂臺階儀、SEN特殊光源、TSUBOSAKA壺坂電機(jī)、NEWKON新光、TOKISANGYO東機(jī)產(chǎn)業(yè)、tokyokeiso東京計(jì)裝、leimac雷馬克、MIKASA米卡薩勻膠機(jī)、COSMO科斯莫、SAKURAI櫻井無塵紙、TOE東京光電子、EYE巖崎UV燈管、SANKO山高、HOYA豪雅光源、日本IMV愛睦威地震儀、HOKUYO北陽電機(jī)、SAKAGUCHI坂口電熱、ThreeBond三鍵膠水等.
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RH50 OTSUKA大冢-高速近場配光測量系統(tǒng) 對應(yīng)微LED等微小樣品的配光測定系統(tǒng)RH50.。 與光學(xué)模擬軟件的聯(lián)合是可能的，可以簡單地高速取得2π空間全方位的光線。50×50mm尺寸以上請看GP-7 series。OTSUKA大冢-高速近場配光測量系統(tǒng)RH50OTSUKA大冢-高速近場配光測量系統(tǒng)RH50
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SF-3Rθ OTSUKA大冢-高速晶圓厚度映射系統(tǒng) *多可以快速映射12inch晶片OTSUKA大冢-高速晶圓厚度映射系統(tǒng)SF-3RθOTSUKA大冢-高速晶圓厚度映射系統(tǒng)SF-3RθOTSUKA大冢-高速晶圓厚度映射系統(tǒng)SF-3Rθ
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SF-3Rθ OTSUKA大冢-晶片厚度映射系統(tǒng) 搭載模式匹配功能，是X-Y定位精度2um以下的系統(tǒng)。OTSUKA大冢-晶片厚度映射系統(tǒng)SF-3RθOTSUKA大冢-晶片厚度映射系統(tǒng)SF-3RθOTSUKA大冢-晶片厚度映射系統(tǒng)SF-3Rθ
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SF-3AAF OTSUKA大冢-晶片厚度映射系統(tǒng) 搭載模式匹配功能，是X-Y定位精度2um以下的系統(tǒng)。OTSUKA大冢-晶片厚度映射系統(tǒng)SF-3AAFOTSUKA大冢-晶片厚度映射系統(tǒng)SF-3AAFOTSUKA大冢-晶片厚度映射系統(tǒng)SF-3AAF
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SF-3AA OTSUKA大冢-晶片厚度映射系統(tǒng) 搭載模式匹配功能，是X-Y定位精度2um以下的系統(tǒng)。OTSUKA大冢-晶片厚度映射系統(tǒng)SF-3AAOTSUKA大冢-晶片厚度映射系統(tǒng)SF-3AAOTSUKA大冢-晶片厚度映射系統(tǒng)SF-3AA
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GS-300 OTSUKA大冢-負(fù)載端口對應(yīng)膜厚測量系統(tǒng) 搭載模式匹配功能，X-Y定位精度在2um以下的系統(tǒng)。OTSUKA大冢-負(fù)載端口對應(yīng)膜厚測量系統(tǒng)GS-300OTSUKA大冢-負(fù)載端口對應(yīng)膜厚測量系統(tǒng)GS-300OTSUKA大冢-負(fù)載端口對應(yīng)膜厚測量系統(tǒng)GS-300
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SF-3/200 OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計(jì) 用非接觸的溫哈和樹脂的超高速實(shí)時(shí)、高精度的測量。OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計(jì)SF-3/200OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計(jì)SF-3/200OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計(jì)SF-3/200
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SF-3/300 OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計(jì) 用非接觸的溫哈和樹脂的超高速實(shí)時(shí)、高精度的測量。OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計(jì)SF-3/300OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計(jì)SF-3/300OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計(jì)SF-3/300
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SF-3/1300 OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計(jì) 用非接觸的溫哈和樹脂的超高速實(shí)時(shí)、高精度的測量。OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計(jì)SF-3/1300OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計(jì)SF-3/1300OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計(jì)SF-3/1300
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SF-3/BB OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計(jì) 用非接觸的溫哈和樹脂的超高速實(shí)時(shí)、高精度的測量。OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計(jì)SF-3/BBOTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計(jì)SF-3/BBOTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計(jì)SF-3/BB
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AT-1500 OTSUKA大冢-非接觸光學(xué)厚度計(jì) OTSUKA大冢-非接觸光學(xué)厚度計(jì)AT-1500OTSUKA大冢-非接觸光學(xué)厚度計(jì)AT-1500OTSUKA大冢-非接觸光學(xué)厚度計(jì)AT-1500
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AT-5000 OTSUKA大冢-非接觸光學(xué)厚度計(jì) OTSUKA大冢-非接觸光學(xué)厚度計(jì)AT-5000OTSUKA大冢-非接觸光學(xué)厚度計(jì)AT-5000OTSUKA大冢-非接觸光學(xué)厚度計(jì)AT-5000
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OTSUKA大冢-線掃描膜厚計(jì) 在線薄膜生產(chǎn)現(xiàn)場能夠?qū)Ρ∧さ哪ず襁M(jìn)行全幅、全長測量的裝置。 通過在獨(dú)自的分光干涉法中組合新開發(fā)的高精度膜厚演算處理技術(shù)，以每*短0.01秒的測定間隔，可以進(jìn)行500mm寬(1臺使用時(shí))的薄膜的膜厚測定。OTSUKA大冢-線掃描膜厚計(jì)OTSUKA大冢-線掃描膜厚計(jì)
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FE-5000S OTSUKA大冢-分光器 除了能夠高精度的薄膜解析的分光中，通過實(shí)現(xiàn)測量角度的自動可變機(jī)構(gòu)，也對應(yīng)于所有種類的薄膜。除以往的旋轉(zhuǎn)檢光子法之外，通過設(shè)置相位差版的自動脫穿機(jī)構(gòu)，提高了測定精度。OTSUKA大冢-分光器FE-5000SOTSUKA大冢-分光器FE-5000SOTSUKA大冢-分光器FE-5000S
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FE-5000 OTSUKA大冢-分光器 除了能夠高精度的薄膜解析的分光中，通過實(shí)現(xiàn)測量角度的自動可變機(jī)構(gòu)，也對應(yīng)于所有種類的薄膜。除以往的旋轉(zhuǎn)檢光子法之外，通過設(shè)置相位差版的自動脫穿機(jī)構(gòu)，提高了測定精度。OTSUKA大冢-分光器FE-5000OTSUKA大冢-分光器FE-5000OTSUKA大冢-分光器FE-5000
